Prekursor silika cecair

Tetraetoksysilan TEOS min. 98% Tetraethoxyorthosilane (TEOS) digunakan sebagai prekursor cecair silika dengan kandungan SiO2 27-29% . Produk ini digunakan sebagai agen penghubung silang dalam...

1 - 1 daripada 1 produk

Silikon dioksida dengan formula kimia SiO ₂ digunakan dalam banyak proses, termasuk dalam proses menghasilkan kaca kuarza. Sintesis sebatian ini berlaku menggunakan prekursor silika cecair .

Silikon dioksida dengan formula kimia SiO ₂ digunakan dalam banyak proses, termasuk dalam proses menghasilkan kaca kuarza. Sintesis sebatian ini berlaku menggunakan prekursor silika cecair . Prekursor mungkin: polisilikat, silikon alkoksida, serta silanes yang sesuai. Sintesis silika daripada prekursor cecair membolehkan kawalan ke atas sifat fizikal dan kimianya. Fakta ini penting dalam banyak proses pengeluaran bahan dan peranti dalam industri seperti mikroelektronik, optik atau pembinaan. Pemendapan wap kimia atau fizikal ialah salah satu kumpulan kaedah untuk menghasilkan silikon dioksida—ia melibatkan pemanasan prekursor cecair, yang diubah menjadi lapisan nipis silika pada permukaan. Bergantung kepada jenis sebatian, silika juga dihasilkan dalam tindak balas pemeluwapan atau proses sol-gel. TEOS (tetraethoxysilane) ialah komponen utama tindak balas yang menjana SiO ₂ , dan ia boleh didapati dalam portfolio produk Kumpulan PCC.

Baca lagi