PCC
DaftarHalaman Log Masuk

Prekursor dalam epitaksi sebatian silikon dan silikon

Prekursor dalam epitaksi silikon dan sebatian silikon ialah bahan kimia yang digunakan dalam proses yang dipanggil epitaksi untuk mendepositkan lapisan silikon pada substrat.

Filtry
Fungsi
Komposisi
Segmen
Pengeluar

Prekursor dalam epitaksi silikon dan sebatian silikon ialah bahan kimia yang digunakan dalam proses yang dipanggil epitaksi untuk mendepositkan lapisan silikon pada substrat.

Epitaksi ialah teknik yang melibatkan pertumbuhan lapisan nipis silikon pada substrat silikon monohabluran. Kaedah ini adalah penting untuk pengeluaran semikonduktor, khususnya dalam industri mikroelektronik, di mana ia adalah penting untuk pengeluaran litar bersepadu.

Kaedah epitaksi yang paling biasa digunakan ialah pemendapan wap kimia menggunakan sebatian metalorganik (MOCVD, MOVPE). Komponen gas diperkenalkan di bawah keadaan terkawal reaktor, menyebabkan pembentukan lapisan yang dikehendaki akibat tindak balas. Contoh prekursor dalam proses ini ialah silikon triklorida.